[发明专利]贝塞尔光束刻写多芯光纤光栅装置有效
申请号: | 201910369214.9 | 申请日: | 2019-05-05 |
公开(公告)号: | CN110389404B | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 张林;贺梦霞 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及光纤光栅制作技术,为提出新的长周期光纤光栅刻写装置。为此,本发明采取的技术方案是,贝塞尔光束刻写多芯光纤光栅装置,由激光器、轴锥镜及位移台组成,由激光器发出的光经过柱状轴锥镜形成细长的光斑,光斑穿过多芯或单芯光纤进行曝光,然后,位移台按照特定周期移动光纤,继续曝光下一点,不断重复,直到整个光纤光栅刻写完成。本发明主要应用于光纤光栅制作场合。 | ||
搜索关键词: | 贝塞尔 光束 刻写 光纤 光栅 装置 | ||
【主权项】:
1.一种贝塞尔光束刻写多芯光纤光栅装置,其特征是,由激光器、轴锥镜及位移台组成,由激光器发出的光经过柱状轴锥镜形成细长的光斑,光斑穿过多芯或单芯光纤进行曝光,然后,位移台按照特定周期移动光纤,继续曝光下一点,不断重复,直到整个光纤光栅刻写完成。
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