[发明专利]基于傅里叶光场和关联成像的光学成像方法在审

专利信息
申请号: 201910360281.4 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110118755A 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 叶华龙;张雷洪;张大伟;康祎;王朝锐;张志晟;徐润初 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G01N21/59 分类号: G01N21/59;G01N21/17
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 徐颖
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种基于傅里叶光场和关联成像的光学成像方法,目标物体的图像用离散化的像素表示。该方法中采用四个波长的光照明,目标物体对光的透过率不同构成傅里叶光场,获取到四个桶探测器值。采用Metasurface制作,可以将四个光场照射目标物体图案像素得到的四个强度信号捆绑为一个调制块,每个强度信号对应一个波长的透过率,最终重构出物体的像。本发明采用不同的光场照明,通过不同的光场信号合为一个,减少了测量次数;通过Metasurface调节波长、空间位置以及透过率的调节,实现一次测量关联成像。
搜索关键词: 光场 关联成像 傅里叶 透过率 波长 光学成像 目标物体 强度信号 照射目标物体 空间位置 图案像素 像素表示 一次测量 离散化 探测器 重构 调制 光照 捆绑 测量 图像 制作
【主权项】:
1.一种基于傅里叶光场和关联成像的光学成像方法,其特征在于,具体步骤如下:1)目标物体的图像用离散化的像素表示,构成大小为一个M×N像素的矩阵,照明光场为用余弦结构光场发生器生成一系列频率不同的按余弦分布的光场,第i个光场在目标物体所在平面的光强分布表示为:Pi(x,y;fx,fy)=a+b·cos(2πfxx+2πfyy+φ),其中i=1、2、3、4,x、y是目标物体的像素点坐标,公式中x取0→M‑1之间的整数,y取0→N‑1之间的整数;fx、fy分别是x、y方向上余弦光场的光波频率,fx、fy用归一化频率表示为α1、β1分别是x、y对应的整数值;a是余弦光场的平均光强、b为有光强照射和无光强照射所在平面的对比度,a、b取整数,φ是光场的初位相;2)用四个初位相分别为的余弦分布光场依次照射目标物体,用光探测器依次接收来自目标物体的光强信号,再依次采集记录光探测器的响应值;3)根据4个响应值获得目标物体图像的傅里叶变换谱;4)对根据响应值获得的目标物体图像的傅里叶变换谱进行二维离散反傅里叶变换,进行重建目标物体的图像。
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