[发明专利]基于模式滤波器的硅基磁光隔离器及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910360248.1 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN111856791B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 李明轩;李金野;于海洋;戴双兴;刘建国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所;中国科学院大学
主分类号: G02F1/095 分类号: G02F1/095;G02B6/122;G02B6/126;G02B6/132;G02B6/13
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于模式滤波器的硅基磁光隔离器,包括模式滤波器以及法拉第旋光器,模式滤波器采用嵌入透明导电氧化物层的条形硅波导结构,法拉第旋光器采用条形磁光材料结构;正向传输的横电场模的输入信号从模式滤波器输入,在通过模式滤波区之后,进入法拉第旋光器并实现45°的偏振旋转后输出;被反射的反向传输光从法拉第旋光器输入,进入法拉第旋光器沿原方向继续旋转45°,共旋转90°后反向传输光由横电场模变为了横磁场模,进入模式滤波器的滤波区时,被透明导电氧化物层损耗,从而实现了反向传输光的隔离。本发明具有隔离度高,插入损耗低,器件尺寸小,易于CMOS集成等特点。
搜索关键词: 基于 模式 滤波器 硅基磁光 隔离器 制备 方法
【主权项】:
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