[发明专利]基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法有效
申请号: | 201910352567.8 | 申请日: | 2019-04-29 |
公开(公告)号: | CN109976065B | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 余燕忠;林雪华 | 申请(专利权)人: | 泉州师范学院 |
主分类号: | G02F1/29 | 分类号: | G02F1/29 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊;丘鸿超 |
地址: | 362000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: |
本发明提出一种基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:两个相互垂直且相位差90°的偶极子组成的虚拟旋转场天线置于4π聚焦系统的焦平面中心,使所述虚拟旋转场天线辐射的电磁场被两个相对的高数值孔径透镜完全会聚并准直到光瞳平面上;步骤S2:所述两个相对的高数值孔径透镜将两束相差180°的入射场聚焦到其光学焦平面上。本发明方法所产生的“8”字型光学焦场的强度分布随着时间在焦平面上围绕光轴以圆频率 |
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搜索关键词: | 基于 旋转 天线 辐射 产生 光学 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于旋转场天线的辐射场产生可旋转光学焦场的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:两个相互垂直且相位差90°的偶极子组成的虚拟旋转场天线置于4π聚焦系统的焦平面中心,使所述虚拟旋转场天线辐射的电磁场被两个相对的高数值孔径透镜完全会聚并准直到光瞳平面上;步骤S2:所述两个相对的高数值孔径透镜将两束相差180°的入射场聚焦到其光学焦平面上。
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