[发明专利]一种蒙脱石基光催化复合材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910342372.5 申请日: 2019-04-26
公开(公告)号: CN110026221A 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 吴丽梅;王晴;唐宁;游旭佳;王德强 申请(专利权)人: 沈阳建筑大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J20/02;B01J20/30
代理公司: 沈阳之华益专利事务所有限公司 21218 代理人: 刘凤桐
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明的目的在于提供一种蒙脱石基光催化材料及其制备方法,涉及一种新型矿物基光催化复合材料及其制备方法,蒙脱石基光催化复合材料以蒙脱石为基材,其上负载有C3N4,其特征在于,所述的蒙脱石为层间阳离子为Na+或者Ca2+,粒径为2mm以下。其制备方法为:将蒙脱石先清洗预处理后烘干研磨至40mm以下,称取适量蒙脱石放入十六烷基三甲基溴化铵和三聚氰胺的溶液中,混合、搅拌、静置、离心后得到蒙脱石基复合材料浆体;再通过烘干、研磨后得到的原材料在550℃马弗炉中烧结4个小时得到了蒙脱石基光催化复合材料。本发明制备的蒙脱石基光催化复合材料对有机污染物良好的吸附性能。
搜索关键词: 蒙脱石 催化复合材料 基光 制备 研磨 烘干 十六烷基三甲基溴化铵 复合材料浆体 清洗预处理 有机污染物 催化材料 三聚氰胺 吸附性能 新型矿物 烧结 马弗炉 阳离子 层间 称取 放入 基材 粒径
【主权项】:
1.一种蒙脱石基光催化复合材料,蒙脱石基光催化复合材料以蒙脱石为基材,其上负载有C3N4,其特征在于,所述的蒙脱石为层间阳离子为Na+或者Ca2+,粒径为2mm以下。
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