[发明专利]制造液晶显示器用阵列基板的方法有效

专利信息
申请号: 201910330615.3 申请日: 2014-06-04
公开(公告)号: CN110147008B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 金镇成;李铉奎;赵成培;梁圭亨;李恩远;权玟廷 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;H01L27/12;C23F1/44;C23F1/18
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 李雪;姚开丽
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种制造液晶显示器用阵列基板的方法,包括以下步骤:a)在基板上形成栅电极;b)在包括栅电极的基板上形成栅绝缘层;c)在栅绝缘层上形成半导体层(n+a‑Si:H和a‑Si:H);d)在半导体层上形成源电极/漏电极;以及e)形成与漏电极连接的像素电极,其中,步骤a)或d)包括通过蚀刻铜基金属膜来形成各个电极的步骤,而且,在蚀刻铜基金属膜中使用的蚀刻剂组合物包括作为用于增加被加工片材的数量的改进剂的柠檬酸。
搜索关键词: 制造 液晶显示 器用 阵列 方法
【主权项】:
1.一种制造液晶显示器用阵列基板的方法,所述方法包括以下步骤:a)在基板上形成栅电极;b)在包括所述栅电极的基板上形成栅绝缘层;c)在所述栅绝缘层上形成半导体层(n+a‑Si:H和a‑Si:H);d)在所述半导体层上形成源电极/漏电极;以及e)形成与所述漏电极连接的像素电极,其中,所述步骤a)或d)包括通过蚀刻包括MoTi/Cu/MoTi的三层膜来形成各个电极的步骤,而且,在蚀刻所述包括MoTi/Cu/MoTi的三层膜中使用的蚀刻剂组合物包括作为用于增加被加工片材的数量的改进剂的柠檬酸,其中,基于所述蚀刻剂组合物的总重量,所述蚀刻剂组合物包括:1.0~10.0wt%的柠檬酸;15.0~25.0wt%的过氧化氢;0.01~1.0wt%的含氟化合物;0.1~5.0wt%的唑类化合物;0.001~5.0wt%的多元醇型表面活性剂;和余量的水,其中,所述唑类化合物是3‑氨基‑1,2,4‑三唑,并且所述多元醇型表面活性剂是三乙二醇。
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