[发明专利]用于清洗硅块的容器、装置及清洗方法有效
| 申请号： | 201910324164.2 | 申请日： | 2019-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN109877098B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 宫尾秀一 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;B08B13/00;C30B33/10;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;胡影 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于清洗硅块的容器、装置及清洗方法，用于清洗硅块的容器包括容器本体，所述容器本体内设有容纳腔，所述容纳腔包括用于放置硅块的清洗区域和该清洗区域之外的用于流通液体和释放反应热的空白区域。所述容器本体上设有与所述容纳腔连通的用于流通液体的第一通孔。根据本发明实施例的用于清洗硅块的容器能够有效的清洗容器内的硅块，可以均匀的清洗框内各硅块的表面，以及硅块与刻蚀液的反应热不能尽快的去除，影响硅块清洗效率和清洗成本的问题，提高了硅块的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洗 容器 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洗硅块的容器，其特征在于，包括容器本体，所述容器本体内设有容纳腔，所述容纳腔包括用于放置硅块的清洗区域和该清洗区域之外的用于流通液体和释放反应热的空白区域，所述容器本体上设有与所述容纳腔连通的用于流通液体的第一通孔。
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