[发明专利]用于感兴趣区域的断层摄影的扫描轨迹在审

专利信息
申请号: 201910315800.5 申请日: 2019-04-18
公开(公告)号: CN110389139A 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: G.R.梅尔斯;S.J.莱瑟姆;A.P.谢泼德;A.M.金斯顿;O.德尔加多-费德里奇斯 申请(专利权)人: FEI公司
主分类号: G01N23/046 分类号: G01N23/046
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张凌苗;申屠伟进
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 用于感兴趣区域的断层摄影的扫描轨迹。本文公开了用于实现用于ROI断层摄影的扫描轨迹的设备和方法。示例性方法包括:基于样本的外接圆半径确定第一焦物距,该样本包括感兴趣区域;基于包含感兴趣区域的最小圆柱体的半径确定第二焦物距;响应于第一焦物距从多个可能的视角确定多个视角,其中所述多个视角中的每个视角均具有从感兴趣区域测量的相关联的焦物距,并且其中多个视角中的每一个中的相关联的焦物距小于第一焦物距并且大于第二焦物距;并且使用至少所述多个视角来扫描感兴趣区域。
搜索关键词: 焦物距 感兴趣区域 视角 断层摄影 扫描轨迹 半径确定 样本 关联 小圆柱体 外接圆 扫描 测量 响应
【主权项】:
1.一种方法,包括:基于样本的外接圆半径确定第一焦物距,所述样本包括感兴趣区域;基于包含所述感兴趣区域的最小圆柱体的半径确定第二焦物距;响应于所述第一焦物距从多个可能的视角确定多个视角,其中所述多个视角中的每个视角均具有从所述感兴趣区域测量的相关联的焦物距,并且其中所述多个视角中的每一个的所述相关联的焦物距均小于所述第一焦物距且大于所述第二焦物距;以及使用至少所述多个视角扫描所述感兴趣区域。
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