[发明专利]一种测量系统及方法有效
申请号: | 201910301909.3 | 申请日: | 2019-04-16 |
公开(公告)号: | CN109884116B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 周红敏;王锦地;张仁华;柏延臣 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
主分类号: | G01N25/20 | 分类号: | G01N25/20 |
代理公司: | 北京中和立达知识产权代理事务所(普通合伙) 11756 | 代理人: | 杨磊 |
地址: | 100875 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种测量系统及方法,该测量系统包括:主机;基座,该基座下面有三个圆孔,用外罩的螺丝把基座固定在该主机上,基座的上半部是螺纹公口,基座安装好后的高度和传感器底部持平;外罩,该外罩包括:一个带母口罗圈的挡板,挡板高度和宽度可选,通过选择不同高度和宽度的挡板,可实现不同角度遮蔽;一个母口罗圈遮挡罩,罗圈高度可调,通过安装不同罗圈实现视场角的限定。通过该系统进行测量,该系统及方法用于特定角度遮蔽和不同视场角的限定,屏蔽铁塔、支架和环境等因素对测量信号的干扰,解决在地表反照率地面精确测量中由于支架和环境因素造成的测量不准确问题,得到地表反照率的代表性真值。 | ||
搜索关键词: | 一种 测量 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种测量系统,其特征在于,所述系统包括:主机,该主机为反照率表主机机身。外罩,该外罩为研制的外罩,包括:基座,该基座下面有三个圆孔,用外罩的螺丝把该基座固定在该主机上,该基座的上半部是螺纹公口,该基座安装好后的高度和传感器底部持平;一个带母口罗圈的高度和宽度可调的挡板,用于不同角度的遮蔽;一个高度可调的母口罗圈遮挡罩,用于不同视场的遮蔽;通过该外罩可以有效去除干扰因素对观测结果的影响,利用该外罩计算反照率如下:反照率=有效半球上行辐射/有效半球下行辐射其中对于特定角度遮蔽:有效半球上行辐射=半球上行辐射‑塔基对上行辐射影响,有效半球下行辐射=半球下行辐射‑塔基对下行辐射影响。所述塔基对上行辐射影响可表示为∫θI↑θidθi,塔基对下行辐射影响可表示为∫θI↓θidθi,其中,I↑θi表示外罩遮挡角度范围内的上行辐射,I↓θi表示外罩遮挡角度范围内的下行辐射,θ是外罩遮挡角度的圆心角,为θ=2arctan(l/2r)。对于特定视场遮蔽:有效半球上行辐射=限定视场角的上行辐射,有效半球下行辐射=半球下行辐射。所述带母口罗圈的挡板,挡板高度和宽度可调,通过安装不同的挡板实现观测角度的遮蔽;所述挡板遮蔽角度计算公式为:θ=2arctan(l/2r);l是弧形挡板所对应的弦长,r是反照率表的半径;所述母口罗圈遮挡罩,该遮挡罩高度可调,通过安装不同遮挡罩实现视场角的限定,所述视场角计算公式为FOV=2arctan(r/h),其中,r为反照率表的半径,h为遮光罩的高度。
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