[发明专利]一种三维等离子纳米复合结构及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910285735.6 申请日: 2019-04-10
公开(公告)号: CN110190141B 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 李明钰;刘思思;余慕妮;苏东;姜胜林;张光祖 申请(专利权)人: 华中科技大学;深圳华中科技大学研究院
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/08;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 曹葆青;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种三维等离子纳米复合结构及其制备方法和应用,结构包括:铝反射层,氧化铝阵列支架,以及金纳米天线。氧化铝阵列支架设置于铝反射层上;金纳米天线设置于氧化铝阵列支架的与铝反射层相对的一侧表面。为防止入射光的溢出,本发明引入铝反射层和氧化铝阵列共振腔,结合强光干涉效果的铝反射层和氧化铝阵列共振腔及强表面等离子效应的自组装金纳米天线的优势,通过反射层、氧化铝阵列支架和金纳米天线的耦合作用,可将光波有效钳制于纳米复合结构表面,实现入射光波的反复利用,有效提升光敏感层的光利用率,突破了传统光探测材料光吸收率的限制。
搜索关键词: 一种 三维 等离子 纳米 复合 结构 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种三维等离子纳米复合结构,其特征在于,包括:铝反射层,氧化铝阵列支架,以及金纳米天线;所述氧化铝阵列支架设置于所述铝反射层上;所述金纳米天线设置于所述氧化铝阵列支架的与所述铝反射层相对的一侧表面。
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