[发明专利]一种光谱选择性白天辐射制冷涂层材料有效
| 申请号： | 201910279550.4 | 申请日： | 2019-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110041735B | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 裴刚;敖显泽;胡名科;赵斌;陈诺 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | F25B23/00 | 分类号： | F25B23/00;C09D1/00;C09D5/32;C09D5/33 |
| 代理公司： | 合肥金安专利事务所(普通合伙企业) 34114 | 代理人： | 金惠贞 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光谱选择性白天辐射制冷涂层材料。由保护层、反射层和红外发射层组成；所述保护层材料为惰性材料，厚度为50～500nm，保护反射层不与空气接触；所述反射层材料为银，厚度为120~500nm；银在0.3～25μm波段的反射率大于0.96；所述红外发射层材料为氧化铝单晶，厚度为100～1000μm；所述涂层材料在0.3～3μm太阳辐射波段的平均反射率大于0.95，在8～13μm“大气窗口”的发射率为0.6～0.9。本发明涂层材料的结构简单，原料易得。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 选择性 白天 辐射 制冷 涂层 材料 | ||
【主权项】：
1.一种光谱选择性白天辐射制冷涂层材料，其特征在于：由依次设置的保护层、反射层和红外发射层组成；所述保护层材料为惰性材料，保护反射层不与空气接触；所述反射层材料为银；所述红外发射层材料为氧化铝单晶；所述涂层材料在0.3～3 μm太阳辐射波段的反射率大于0.95，在8～13 μm的“大气窗口”的发射率为0.6～0.9。
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