[发明专利]一种脑靶向外泌体及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201910278139.5 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110115769A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 高建青;蒋心驰 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | A61K47/46 | 分类号： | A61K47/46;A61P9/10 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种脑靶向外泌体及其制备方法和应用，制备方法包括以下步骤：(1)将干细胞在低氧条件下进行培养，对干细胞进行靶向修饰；所述的低氧条件为：温度为30～40℃，氧气浓度为0.5～5％，二氧化碳浓度为1～10％；(2)将靶向修饰后的干细胞转移至正常培养条件进行培养，收集干细胞培液，从所述的干细胞培液中提取分离，获得脑靶向外泌体。获得的脑靶向外泌体可应用于制备治疗缺血性脑卒中的药物。本发明的制备方法通过对干细胞的改造间接修饰外泌体，提高其膜表面CXCR4的表达，从而提高其脑靶向性。 | ||
| 搜索关键词： | 干细胞 脑靶向 修饰 制备 制备方法和应用 低氧条件 靶向 缺血性脑卒中 正常培养条件 脑靶向性 提取分离 膜表面 二氧化碳 氧气 治疗 改造 应用 | ||
【主权项】：
1.一种脑靶向外泌体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将干细胞在低氧条件下进行培养，对干细胞进行靶向修饰；所述的低氧条件为：温度为30～40℃，氧气浓度为0.5～5％，二氧化碳浓度为1～10％；(2)将靶向修饰后的干细胞转移至正常培养条件进行培养，收集干细胞培液，从所述的干细胞培液中提取分离，获得脑靶向外泌体。
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