[发明专利]镀膜处理方法、基底及电子设备有效
| 申请号： | 201910271531.7 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN111778483B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 王煜琨 | 申请（专利权）人： | 北京小米移动软件有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 100085 北京市海淀区清河*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开是关于一种镀膜处理方法、基底及电子设备，该方法包括：对基底的任一侧进行遮蔽处理，以在基底的非图案区域形成遮蔽层；在基底的任一侧进行镀膜，以在非图案区域之外的图案区域中沉积光学膜层；褪除遮蔽层，以得到附着光学膜层的图案区域、未附着光学膜层的非图案区域，使基底在图案区域与非图案区域的光线反射率的差值不小于预设阈值。通过本公开的技术方案，实现图案区域与非图案区域的区别显示，丰富基底的光学呈现效果。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 处理 方法 基底 电子设备 | ||
【主权项】：
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