[发明专利]一种完美吸收体涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201910269793.X | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN109972090B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 高俊华;臧睿;曹鸿涛;胡海搏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 刘诚午 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种完美吸收体涂层，自衬底向外依次包括金属反射层、电介质层、金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、金属纳米颗粒‑陶瓷复合层以及电介质减反射层；所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层中，金属纳米线阵列垂直分布在陶瓷相中，金属纳米线的直径不小于3.5nm，高度与所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的厚度相同，相邻金属纳米线的间距为1～15nm，金属纳米线占所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的体积百分数为20％～60％；所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层中，金属纳米颗粒弥散均匀分布于陶瓷相中，金属纳米颗粒的直径4～15nm，占所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层的体积百分数为5％～45％。还公开了一种完美吸收体涂层的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 完美 吸收体 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种完美吸收体涂层，其特征在于，自衬底向外依次包括金属反射层、电介质层、金属纳米线阵列‑陶瓷复合层、金属纳米颗粒‑陶瓷复合层以及电介质减反射层；所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层中，金属纳米线阵列垂直分布在陶瓷相中，金属纳米线的直径不小于3.5nm，高度与所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的厚度相同，相邻金属纳米线的间距为1～15nm，金属纳米线占所述金属纳米线阵列‑陶瓷复合层的体积百分数为20％～60％；所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层中，金属纳米颗粒弥散均匀分布于陶瓷相中，金属纳米颗粒的直径4～15nm，占所述金属纳米颗粒‑陶瓷复合层的体积百分数为5％～45％。
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