[发明专利]纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰在审

专利信息
申请号: 201910257893.0 申请日: 2019-04-01
公开(公告)号: CN109859615A 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 胡惠;林海坤 申请(专利权)人: 深圳圣世文化发展有限公司
主分类号: G09F3/02 分类号: G09F3/02
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 钟火军
地址: 518000 广东省深圳市罗*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰,包括具有防伪层的标志结构体;所述标志结构体设有一个装饰面,以及用于安装与首饰结构的安装面;所述装饰面用于设置图形文字画像,所述防伪层设置于装饰面上;所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体,所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像,用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。该防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体,其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形,并以反射的方式展示在显示面上,达到防伪目的。
搜索关键词: 点状体 微雕技术 防伪层 首饰 镭射防伪标志 画像 标志结构 结构体 装饰面 连线 反射 防伪标志结构 反射光线 规则分布 镭射激光 图形文字 安装面 显示面 浅色 防伪 加工 展示
【主权项】:
1.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体,其特征在于,包括具有防伪层的标志结构体;所述标志结构体设有一个装饰面,以及用于安装与首饰结构的安装面;所述装饰面用于设置图形文字画像,所述防伪层设置于装饰面上;所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体,所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像,用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。
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