[发明专利]纳米微雕技术镭射防伪标志结构体与加工方法及其首饰

权利要求书

1.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。

2.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述点状体的高度为0.001-0.100mm，所述点状体的上端均处于一个平面或曲面。

3.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述安装面设有粘性物质，用于安装于首饰结构。

4.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述安装面设有安装结构，所述的安装结构采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；或，所述标志结构体与首饰结构固定连接。

5.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述点状体上端设有保护层，用于保护点状体不会脱落衰减。

6.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法，基于权利要求1-5任一项所述的纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，包括以下步骤：

刻板步骤，运用超微型自行雕刻技术，将防伪内容雕刻制成图档格式，并得到防伪图档数据；

数据处理步骤，将防伪图档数据进行排版处理，将排版处理后的数据传输至微雕设备，准备进行微雕；

微雕步骤，将防伪图档数据中的字体、图形或画像以纳米微雕技术雕刻在标志结构体装饰面上，获得防伪层；

其中，所述刻板步骤还包括，选取预展示防伪图像，并提取所述预展示防伪图像的轮廓；

依据所述轮廓以及预展示图像设计微雕图档格式并制作微雕刻板。

7.根据权利要求6所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法，其特征在于，所述刻板步骤还包括，所述防伪图档数据包含利用355光波反射投影原理设置的点状体反射面角度信息。

8.根据权利要求6所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法，其特征在于，所述微雕步骤还包括，所述防伪层的点状体以点成线、以线成面，所述防伪层上方设置有保护层，用于防止点状体脱落衰减。

9.根据权利要求6所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法，其特征在于，当所述防伪层被镭射激光照射时，所述防伪层可在显示面反射出防伪信息。

10.一种首饰，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，和/或，采用权利要求6-9中任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体的加工方法制作。