[发明专利]光学防伪元件及其制作方法有效
| 申请号： | 201910251304.8 | 申请日： | 2019-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN111746171B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 胡春华;朱军;张巍巍;孙凯 | 申请（专利权）人： | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
| 主分类号： | B42D25/324 | 分类号： | B42D25/324;B42D25/36;B42D25/373;B42D25/40;B42D25/45;B42D25/21;B42D25/24;B42D25/29;B42D25/22 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 肖冰滨;王晓晓 |
| 地址： | 100070 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光学防伪元件及其制作方法，属于光学防伪技术领域。所述光学防伪元件包括：起伏结构层，所述起伏结构层具有第一区域、第二区域和第三区域；所述第一区域具有第一微结构；所述第二区域具有第二微结构；所述第三区域为无结构的平坦区域；所述第二微结构的比体积大于所述第一微结构的比体积；所述第一区域和所述第三区域均具有重叠的反射层、介电层和吸收层，且所述第二区域不具有反射层；位于所述第一区域的介电层远离起伏结构层一侧的表面形貌与起伏结构层的表面形貌明显不同。光学防伪元件一侧反射观察时，第一区域具有较弱的或者不具有干涉光变效果，第三区域具有明显的干涉光变效果，透视观察时，第二区域具有镂空效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 防伪 元件 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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