[发明专利]基于光刻蚀成型的应变传感器及其制造方法在审
| 申请号： | 201910160403.5 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN109870114A | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 高阳;轩福贞;肖婷;温建锋;沙金;谈建平 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | G01B11/16 | 分类号： | G01B11/16 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陶启长 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种超高灵敏度、加工简单、成本低、寿命长的光刻蚀成型的图案化柔性应变传感器及其制备方法。在一个方面，本发明提供一种光敏PDMS与导电材料的复合物。在一个方面，本发明提供一种应变传感器的制备方法，包括：a)在基材上形成光敏PDMS/导电材料复合物，b)用紫外光经遮光片照射所述复合物，在所述复合物上形成未照射部分和经照射部分，c)移除经照射部分，d)在所述复合物上形成电极，所述电极与所述复合物电连接，和e)在所述复合物上形成柔性保护层。本发明还提供本文所述方法在制备高分辨、高灵敏、可穿戴应变传感器中的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 复合物 应变传感器 照射 制备 导电材料 光刻蚀 电极 光敏 成型 超高灵敏度 柔性保护层 紫外光 电连接 高分辨 可穿戴 图案化 遮光片 基材 移除 灵敏 加工 制造 | ||
【主权项】：
1.一种基于光刻蚀成型的应变传感器的制备方法，包括a)在基材上形成光敏PDMS/导电材料复合物，b)用紫外光经遮光片照射所述复合物，在所述复合物上形成未照射部分和经照射部分，c)移除所述经照射部分，所述未照射部分形成导电层，d)在所述导电层上形成第一保护层，e)移除基材，f)在所述导电层的与所述第一保护层相反的一侧形成一对电极，所述电极与所述导电层电连接，g)在所述导电层及电极上形成第二保护层。
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