[发明专利]光学测量装置和光学测量方法有效
| 申请号： | 201910144958.0 | 申请日： | 2019-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN110231299B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 堀田和希;河田阳一;中西笃司;藤田和上;高桥宏典;里园浩 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/3581 | 分类号： | G01N21/3581;G01N21/35 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;尹明花 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的光学测量装置(1)具备：光源(2)，其输出太赫兹波(T)和与太赫兹波(T)同轴且具有与该太赫兹波(T)不同的波长的同轴光(I)；强度调制部(3)，其以规定的调制频率对太赫兹波(T)和同轴光(I)中的至少太赫兹波(T)进行强度调制；以及光检测部(5)，其基于调制频率(f1)而分别对经强度调制部(3)作用于被测量物(S)的太赫兹波(T)和同轴光(I)进行同步检波。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学测量装置，其中，具备：光源，其输出太赫兹波和与所述太赫兹波同轴且具有与所述太赫兹波不同的波长的同轴光；强度调制部，其以规定的调制频率对所述太赫兹波和所述同轴光中的至少所述太赫兹波进行强度调制；和光检测部，其基于所述调制频率而分别对经所述强度调制部作用于被测量物的所述太赫兹波和所述同轴光进行同步检波。
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