[发明专利]基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法在审
| 申请号： | 201910074761.4 | 申请日： | 2019-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN109623508A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 吴康;邓源;黄微 | 申请（专利权）人： | 云南蓝晶科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 昆明盛鼎宏图知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 53203 | 代理人： | 许竞雄 |
| 地址： | 653100*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，包括以下步骤：1）配置高配比抛光液，作为抛光液新料；2）采用循环抛光对蓝宝石晶片表面进行研磨抛光；3）将一次循环研磨抛光产生的剩余抛光液回收处理，作为抛光液旧料；4）在下次循环研磨抛光过程中，根据抛光液新料的挥发量添加抛光液旧料进行补液；所述高配比抛光液包括有抛光原液和水；所述高配比抛光液由抛光原液和水按照1：n的体积比均匀混合后得到；n的取值范围为1‑3；本发明所采取的技术方案解决了目前LED用蓝宝石晶片抛光的方法使得单片抛光成本偏高以及结晶程度较高导致不容易清洗打扫的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光液 高配比 蓝宝石晶片 抛光 数控抛光 研磨抛光 旧料 新料 原液 方案解决 回收处理 抛光成本 抛光过程 循环抛光 循环研磨 一次循环 挥发量 体积比 补液 单片 打扫 清洗 配置 | ||
【主权项】：
1.一种基于高配比抛光液的LED用蓝宝石晶片数控抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：1）配置高配比抛光液，作为抛光液新料；2）采用循环抛光对蓝宝石晶片表面进行研磨抛光；3）将一次循环研磨抛光产生的剩余抛光液回收处理，作为抛光液旧料；4）在下次循环研磨抛光过程中，根据抛光液新料的挥发量添加抛光液旧料进行补液。
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