[发明专利]一种研究氢气在钐钆掺杂二氧化铈表面氧化反应的方法有效

专利信息
申请号: 201910072398.2 申请日: 2019-01-25
公开(公告)号: CN109616162B 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 朱后禹;侯永春;张恒驰;刘东源;丁雪飞;孟国栋;于泽华;郭文跃 申请(专利权)人: 中国石油大学(华东)
主分类号: G16C20/30 分类号: G16C20/30
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 李宏伟
地址: 266000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种研究氢气在钐钆掺杂二氧化铈表面氧化反应的方法,利用MS软件构建二氧化铈的周期性结构,使用VESTA软件将搭建好的计算模型转换成VASP软件包计算所必需的POSCAR模型结构性文件,利用VASP软件计算氧空位形成能,确定容易形成氧空位的位置,计算所必需的POSCAR模型结构性文件,获得各个吸附结构、中间体以及产物分子的能量,确定稳定吸附结构,通过对比分析氧空位形成能、能垒、反应能信息,判断掺杂对于二氧化铈表面氢气氧化反应的影响。本发明有益效果是计算快捷、操作简单、且无需大量的试验材料,具有低成本、高效率、无污染的优势。
搜索关键词: 一种 研究 氢气 掺杂 氧化 表面 反应 方法
【主权项】:
1.一种研究氢气在钐钆掺杂二氧化铈表面氧化反应的方法,其特征在于按照以下步骤进行:步骤1:利用MS软件构建二氧化铈的周期性结构,对二氧化铈做切面构建原胞并拓展为超晶胞;构建钐/钆在二氧化铈超晶胞中所有的掺杂模型,使用VESTA软件将搭建好的计算模型转换成VASP软件包计算所必需的POSCAR模型结构性文件;步骤2:利用SSH远程连接工作站、超算计算资源并用VASP软件包对结构数据文件进行结构优化,获得优化后的二氧化铈模型和最稳定的掺杂结构;步骤3:利用MS软件分别构建氧气分子,纯二氧化铈表面和钐/钆掺杂表面、各氧空位位置的纯二氧化铈表面和掺杂表面,使用VESTA软件将搭建好的计算模型转换成VASP软件包计算所必需的POSCAR模型结构性文件,利用VASP软件计算氧空位形成能,确定容易形成氧空位的位置;步骤4:利用MS软件构建氢气分子在二氧化铈和钐/钆掺杂表面各吸附构型,并画出二氧化铈模型分子及氢气反应过程中各反应物、中间体、产物分子结构;使用VESTA软件将搭建好的计算模型转换成VASP软件包计算所必需的POSCAR模型结构性文件;步骤5:利用SSH远程连接工作站、超算计算资源和VASP软件包对步骤3中的结构性文件进行结构优化,获得各个吸附结构、中间体以及产物分子的能量,确定稳定吸附结构;步骤6:使用CI‑NEB的方法来搜寻过渡态,从稳定吸附构型出发,在初态和末态中插入几个状态,一段一段的来找这个过渡态的准确位置,在初态和末态中,选取了几个状态,对其能量进行计算,从而得出过渡态;步骤7:根据稳定吸附结构、过渡态及产物的能量数据绘制势能面,搭建氧化反应网络;步骤8:通过对比分析氧空位形成能、能垒、反应能信息,判断掺杂对于二氧化铈表面氢气氧化反应的影响。
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