[发明专利]掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件有效
| 申请号： | 201910021082.0 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109722630B | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 王志祥;沈阳;王国兵;康梦华;叶訢 | 申请（专利权）人： | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/50;H01L27/32 |
| 代理公司： | 11606 北京华进京联知识产权代理有限公司 | 代理人： | 哈达 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩模单元及具有该掩模单元的掩模组件，其中所涉及的掩模单元包括镀膜区，镀膜区具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口，掩模单元还包括第一辅助区，第一辅助区具有邻接镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，第一开口于其延伸形成方向上的宽度尺寸逐渐减小；本发明掩模单元中的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接，基于第一辅助区中第一开口的渐变形态，可以有效降低掩模单元镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率；且由于第一辅助区的应力释放作用，在掩模单元张紧过程中能够有效减少镀膜区内蒸镀开口的位置偏移量，从而提高蒸镀开口的整体精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模单元 镀膜区 辅助区 开口 蒸镀 侧边部 周边区域 应力释放作用 位置偏移量 掩模板组件 交界位置 外侧延伸 掩模组件 有效减少 逐渐减小 渐变 邻接 镀膜 像素 张紧 成型 概率 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种掩模单元，用于有机发光显示器像素蒸镀成型，包括镀膜区，所述镀膜区具有多个供蒸镀成型所述像素的蒸镀开口，其特征在于，所述掩模单元还包括第一辅助区，所述第一辅助区具有邻接所述镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一所述第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，所述第一开口于其延伸方向上的宽度尺寸逐渐减小；/n所述掩模单元呈长条状且还具有第二辅助区，所述第二辅助区具有一对于所述掩模单元宽度方向上分布于所述镀膜区相对两侧外的第二侧边部，每一所述第二侧边部的长度方向与所述掩模板的长度方向一致且内部分布有若干第四开口；于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，单位面积上所述第四开口的总开口面积呈逐渐增大趋势。/n
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