[发明专利]聚焦装置和具有该聚焦装置的EUV辐射产生设备在审
| 申请号： | 201880093432.8 | 申请日： | 2018-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN112189160A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | M·兰贝特;T·埃尔金 | 申请（专利权）人： | 通快激光系统半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/182 | 分类号： | G02B7/182 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 郭毅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于将激光束(3)聚焦在目标区域(5)中的聚焦装置(15)，其尤其用于产生EUV辐射(7)，其包括：用于扩宽所述激光束(3)的抛物面镜(16)，以及用于将经扩宽的激光束(3)聚焦在所述目标区域(5)以内的焦点位置(P2)上的椭圆面镜或双曲面镜(17)，以及运动装置(19)，所述运动装置构造为使所述椭圆面镜或双曲面镜(17)相对于所述抛物面镜(6)运动和/或与所述抛物面镜(16)共同地运动，以改变在所述目标区域(5)以内的焦点位置(P2)。本发明还涉及一种EUV辐射产生设备(1)，其具有这样的聚焦装置(15)。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 装置 具有 euv 辐射 产生 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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