[发明专利]EUV辐射产生装置有效
| 申请号： | 201880092706.1 | 申请日： | 2018-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN112166369B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | M·兰贝特;T·埃尔金 | 申请（专利权）人： | 通快激光系统半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;H05G2/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 郭毅 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反射光学元件(16)，其包括：内部的第一表面区域(18a)，用于对照射到反射光学元件(16)上的光束(3)的第一内辐射分量(20a)进行反射以形成第一反射光束(21a)；以及至少一个外部的第二表面区域(18b)，用于对照射光束(3)的至少一个第二外辐射分量(20b)进行反射以形成至少一个第二反射光束(21b)，其中，第二表面区域(18b)构造为使第二反射光束(21b)的射束横截面(D2)相比于第一反射光束(21a)减小，使得第二反射光束(21a)沿着重叠长度(L)完全在第一反射光束(21a)之内延伸。本发明还涉及一种具有至少一个这种反射光学元件(16)的射束引导装置(4)以及一种具有这种射束引导装置(4)的EUV辐射产生装置(1)。 | ||
| 搜索关键词： | euv 辐射 产生 装置 | ||
【主权项】：
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