[发明专利]EUV辐射产生装置有效

专利信息
申请号: 201880092706.1 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN112166369B 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: M·兰贝特;T·埃尔金 申请(专利权)人: 通快激光系统半导体制造有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;H05G2/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 郭毅
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: euv 辐射 产生 装置
【说明书】:

发明涉及一种反射光学元件(16),其包括:内部的第一表面区域(18a),用于对照射到反射光学元件(16)上的光束(3)的第一内辐射分量(20a)进行反射以形成第一反射光束(21a);以及至少一个外部的第二表面区域(18b),用于对照射光束(3)的至少一个第二外辐射分量(20b)进行反射以形成至少一个第二反射光束(21b),其中,第二表面区域(18b)构造为使第二反射光束(21b)的射束横截面(D2)相比于第一反射光束(21a)减小,使得第二反射光束(21a)沿着重叠长度(L)完全在第一反射光束(21a)之内延伸。本发明还涉及一种具有至少一个这种反射光学元件(16)的射束引导装置(4)以及一种具有这种射束引导装置(4)的EUV辐射产生装置(1)。

技术领域

本发明涉及一种EUV辐射产生装置。

背景技术

通常使用光圈来限制入射到反射光学元件上和/或在反射光学元件上反射的光束、尤其激光束的射束横截面或射束直径。这种光圈吸收照射到由光圈开口预给定的射束横截面之外的光束的功率。如果没有用于光圈的安装空间可用、如果入射光束的强度如此高使得光圈可能被破坏、如果出于其他原因不使用光圈来限制射束横截面,则需要以其他方式来限制光束的射束横截面,或者选择射束横截面如此小,使得光束不会照射到不应被照明的构件上。如果射束横截面不受限制,则这可能导致在所述构件上的不期望的反射和/或所述构件的不期望的加热。所述不期望的加热由于热膨胀而可能导致例如构件的不期望的移位,这可能导致像差。

由WO 2015/036025 A1已经已知一种射束引导装置,在该射束引导装置中,将具有不同波长的第一激光束和第二激光束在共同的重叠装置上重叠,所述共同的重叠装置用于在到目标区域的方向上进行共同的射束引导。重叠装置可以涉及反射光学元件,该反射光学元件具有用于反射第一激光束的第一表面区域和用于反射第二激光束的第二表面区域。

发明内容

本发明基于以下任务,提供一种EUV辐射产生装置,它们在不使用光圈的情况下限制激光束的射束横截面或射束直径。

本发明的一个方面涉及一种反射光学元件,该反射光学元件包括:第一内表面区域,用于对照射在该反射光学元件上的光束的第一内辐射分量进行反射以形成第一反射光束;以及至少一个第二外表面区域,用于对照射光束的至少一个第二外辐射分量进行反射以形成至少一个第二反射光束,其中,第二表面区域构造为用于使第二反射光束的射束横截面相对于第一反射光束的射束横截面减小,使得第二反射光束沿着重叠长度完全在第一反射光束之内延伸。

根据本发明提出,通过以下方式实现对照射到反射光学元件上的光束的射束横截面的限制:将反射光学元件的反射表面分割为至少两个表面区域。第一内表面区域或者说第一中央表面区域形成用于反射第一光束的有效表面,该第一光束形成有效光束。在径向上处于更靠外的至少一个第二表面区域用作分离表面,即该第二表面将第二辐射分量与第一辐射分量分离。为此,第二表面区域典型地构造为适当弯曲,以便使第二照射射束分量的射束横截面相对于第一照射射束分量的射束横截面减小,使得在第二表面区域上反射的第二光束进入到第一反射光束的射束路径中并且在重叠长度内完全在第一反射光束之内延伸。

以这种方式可以防止:关于入射光束的射束轴线而言在径向上处于靠外的辐射分量在重叠长度内落在构件、尤其壳体构件上并在该处导致不期望的变热。应当理解,必要时也能够保护构件免于入射光束的在径向上处于更靠外的如下辐射分量:所述辐射分量在第一或第二反射光束的光路中布置在重叠长度之前或之后。在此,重叠长度描述在第一光束的传播方向上的如下区段:在该区段中,第二光束完全在第一光束之内延伸。

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