[发明专利]掩模版增强技术中的设计的建模

摘要

用于掩模版增强技术(RET)的方法包括：将目标晶片图案或所预测晶片图案表示为作为函数样本数组捕获的平滑函数，所述函数样本数组是函数值的数组。提供连续色调掩模(CTM)，其中所述CTM用于产生所预测晶片图案。用于RET的方法还包括：输入目标晶片图案，其中所述目标晶片图案跨越整个设计区域。将所述整个设计区域划分成多个图块，每个图块具有围绕所述图块的光晕区。迭代所述整个设计区域的所提议掩模，直到所提议掩模满足产生所述目标晶片图案的标准为止。每次迭代包括：针对所述多个图块的子集计算所预测晶片图案；以及更新所述图块的所提议掩膜；其中所述子集中的所有图块都在下一迭代之前被计算。