[发明专利]用于投射光刻系统的光瞳分面反射镜、光学系统和照明光学系统有效
| 申请号： | 201880082025.7 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN111512188B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | S.比林;M.恩德雷斯;T.费舍尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B5/09;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在包括具有不可接近的入瞳的变形成像投射光学系统(7)的投射光刻系统(1)中，通过传输光学系统(15)对光瞳分面反射镜(14)和/或其光瞳分面(14a)和/或其成像动作进行各种适配可以是有利的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 投射 光刻 系统 光瞳分面 反射 光学系统 照明 | ||
【主权项】：
暂无信息
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