[发明专利]面光源装置的制造系统以及面光源装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201880072453.1 申请日: 2018-11-27
公开(公告)号: CN111316033A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 木下惠一;宫泽勇树;桥本宽司 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: F21K9/20 分类号: F21K9/20;F21K9/69;F21Y115/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳雪兰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种面光源装置的制造系统以及面光源装置的制造方法,抑制面光源装置发生漏光。面光源装置的制造系统具有:第一粘贴部,其将棱镜片材与遮光胶带进行粘贴;第一拍摄部,其从遮光胶带的厚度方向对粘贴有棱镜片材的遮光胶带进行拍摄,并从框架的厚度方向对包围导光板的侧面而收纳导光板的框架进行拍摄;算出部,其根据粘贴有棱镜片材的遮光胶带的拍摄数据算出遮光胶带的轮廓点的坐标及中心点的坐标,并根据框架的拍摄数据算出框架的轮廓点的坐标及中心点的坐标;第二粘贴部,其基于遮光胶带的轮廓点的坐标及中心点的坐标、以及框架的轮廓点的坐标及中心点的坐标,调整粘贴有棱镜片材的遮光胶带的位置及框架的位置的至少一方,并将粘贴有棱镜片材的遮光胶带与框架进行粘贴。
搜索关键词: 光源 装置 制造 系统 以及 方法
【主权项】:
暂无信息
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