[发明专利]用于制造发光的像素阵列的方法在审

专利信息
申请号: 201880072379.3 申请日: 2018-10-01
公开(公告)号: CN111316457A 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: D.凯佩尔 申请(专利权)人: 艾克斯特朗欧洲公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L27/32;B05D7/00;B05D1/00;C23C14/12;H01L51/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 任丽荣
地址: 德国黑*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于制造施加在衬底(4)上的、在电流导引通过时发光的像素的方法,其中,所述像素分别具有:电子传输层(ETL)、空穴传输层(HTL)、空穴阻挡层(HBL)或者电子阻挡层(EBL)和发光层(EML‑R、EML‑G、EML‑B)。按照本发明规定,所述层(ETL、HTL、HBL、EBL、EML‑R、EML‑G、EML‑B)分别在具有至少0.001mbar的总压力的气体气氛中制造,其中,所述总压力应该至少大于0.01mbar。为了使发光层沉积,可以使用包含在溶剂中的发光颗粒。所述溶剂可以在总压力<10mbar、尤其<0.01mbar时在处理室中蒸发。
搜索关键词: 用于 制造 发光 像素 阵列 方法
【主权项】:
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