[发明专利]具有限制施加在其目标区域上的配制物迁移的功能的片状基底，以及用其制造的片状美容产品在审
| 申请号： | 201880068791.8 | 申请日： | 2018-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN111225651A | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | G.阿加瓦尔;大方宽之 | 申请（专利权）人： | 莱雅公司 |
| 主分类号： | A61K8/02 | 分类号： | A61K8/02;A61K8/81;A61Q19/00;A45D44/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 王琳;梅黎 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及片状基底，其中意在将两种或更多种配制物分别要施加至其上的相应目标区域分配至该基底。该基底由非织造材料形成。该非织造材料的体积密度为0.01克/立方厘米至0.08克/立方厘米。本发明还涉及包含此类基底和两种或更多种浸渍在该基底中的配制物的片状美容产品。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 限制 施加 目标 区域 配制 迁移 功能 片状 基底 以及 制造 美容 产品 | ||
【主权项】：
暂无信息
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