[发明专利]在压印光刻工艺中配置光学层有效
| 申请号： | 201880067545.0 | 申请日： | 2018-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN111226143B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | V·辛格;M·N·米勒;F·Y·徐;S·杨 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/11;G03F7/00;B29C59/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;杨晓光 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种配置光学层的压印光刻方法包括选择要施加到基板上以改变基板的有效折射率的纳米层的一个或多个参数；以及在基板上压印纳米层以改变基板的有效折射率，使得可透射通过基板的相对光量改变选定的量。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 工艺 配置 光学 | ||
【主权项】：
暂无信息
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