[发明专利]成膜方法在审

专利信息
申请号: 201880067006.7 申请日: 2018-10-03
公开(公告)号: CN111212929A 公开(公告)日: 2020-05-29
发明(设计)人: 广田悟史;赤理孝一郎 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/22
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李婷;司昆明
地址: 日本兵库*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够在基材的表面形成具有比该基材的硬度高的高度的皮膜并使该皮膜良好地紧贴于基材的表面的成膜方法。该成膜方法包括以下步骤:使通过一边在收容基材的腔室内导入惰性气体一边放电而生成的惰性气体离子冲撞于基材的表面,从而对基材的表面进行蚀刻的蚀刻步骤;一边通过使惰性气体离子冲撞于金属靶材而使金属粒子从金属靶材飞出并使该金属粒子堆积于在蚀刻步骤被蚀刻后的基材的表面,一边使惰性气体离子冲撞于在基材的表面被堆积的金属粒子而将该金属粒子打进基材的表面的打进步骤;以及将皮膜形成于在打进步骤被打进金属粒子后的基材的表面的皮膜形成步骤。
搜索关键词: 方法
【主权项】:
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