[发明专利]用于制造透明导电膜的方法有效
| 申请号： | 201880067001.4 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN111225993B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 申东明;文钟敏 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/34;H01B5/14;H01B13/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 梁笑;尚光远 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本申请的一个示例性实施方案的制造透明导电膜的方法包括准备基底；以及在所述基底上形成包含由式1表示的化合物的薄膜，其中薄膜的形成通过在250℃或更低的温度下的RF溅射工艺来进行。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 透明 导电 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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