[发明专利]用于制造光学装置的方法有效
| 申请号： | 201880063270.3 | 申请日： | 2018-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN111164503B | 公开（公告）日： | 2022-09-13 |
| 发明（设计）人： | 柳正善;高铜浩;李孝珍;文寅周;金南圭;李玹准 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 梁笑;吴娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及用于制造光学装置的方法和光学装置。本申请提供了能够使在通过点涂过程制造光学装置时可能出现的点涂不均匀性最小化或消除的制造方法。特别地，即使当存在大的单元间隙或者应用聚合物基底作为基底使得无法进行高温热处理时，本申请的这样的方法也可以通过改善点涂不均匀性来提供具有改善的取向的配向膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 光学 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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