[发明专利]分析装置在审
| 申请号： | 201880062924.0 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN111247421A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 穴泽隆;山崎基博;中泽太朗;藤冈满 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/05 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 张敬强;金成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为了利用简易的方法来避免成像图像间的串扰，本发明的特征在于，具有供从多个发光点发出的光通过的光学系统(P)、以及对由光学系统(P)成像的光进行计测的计测部，发光点中任意两个发光点的中点从光学系统(P)的中心(CA)偏移。更具体而言，其特征在于，光学系统(P)的中心(CA)位于多个发光点E的集合体亦即发光点组的外侧。通过以上结构，主像(M)与重像(G)分离，从而能够避免重影所引起的串扰，能够正确地分析从多个发光点(E)发出的光。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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