[发明专利]分析装置

权利要求书

1.一种分析装置，其特征在于，具有：

多个发光点；

光学系统，其使从上述发光点射出的光成像；以及

计测部，其对上述成像的光进行计测，

上述发光点中任意两个上述发光点的中点从上述光学系统的光轴偏移。

2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

上述光轴位于多个上述发光点的集合体亦即发光点组的外侧。

3.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

若将上述发光点所存在的平面与上述光轴的交点作为原点，由从上述原点起的向量表示多个上述发光点的坐标，并且定义由两个上述向量的组合中的两个上述向量所成的角度最大而且小于180度的两个向量所夹的区域，则任意的上述向量纳入上述区域。

4.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

若将上述发光点所存在的平面与上述光轴的交点作为原点，并由从上述原点起的两个向量表示多个上述发光点中的任意两个发光点的坐标，则两个上述向量所成的角度大致为0度或者大致为180度。

5.根据权利要求4所述的分析装置，其特征在于，

上述光学系统使各个上述发光点在垂直于上述向量的方向上以波长分散的方式成像。

6.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

多个上述发光点以等间隔的直线状或者格子状排列，

将上述发光点所存在的平面与上述光轴的交点作为原点，

设定第一轴和第二轴，上述第一轴与多个上述发光点排列的任意直线平行而且通过上述原点，上述第二轴与上述第一轴垂直而且通过上述原点，

将上述发光点在上述第一轴向上的间隔设定为x1，并将上述发光点在上述第二轴向上的间隔设定为x2，

在将离上述原点最近的发光点与上述第二轴的距离设为X1、将离上述原点最近的发光点与上述第一轴的距离设为X2时，上述X1及上述X2满足以下的条件：

当存在(A1)0≤X1＜1/2×x1，(A2)0≤X2＜1/2×x2的条件时，满足(A1)及(A2)的任一条件，而且(A3)X1和X2不会同时为零。

7.根据权利要求6所述的分析装置，其特征在于，

上述X1及上述X2满足(B1)1/8×x1≤X1≤3/8×x1，(B2)1/8×x2≤X2≤3/8×x2的至少一方。

8.根据权利要求6所述的分析装置，其特征在于，

上述X1及上述X2满足(D1)X1≈1/4×x1，(D2)X2≈1/4×x2的至少一方。

9.根据权利要求1或2所述的分析装置，其特征在于，

上述发光点是构成毛细管阵列的多个毛细管的发光点。

10.根据权利要求9所述的分析装置，其特征在于，

上述光学系统使上述发光点在上述毛细管的长轴方向上以波长分散的方式成像。

11.一种分析装置，其特征在于，

具有光学系统，该光学系统使从具有多个发光点的发光点组发出的光在预定位置成像，

由于通过上述光学系统，所以上述发光点分别成像的正规的成像图像中的任意两个中点从光轴偏移。

12.根据权利要求11所述的分析装置，其特征在于，

上述光轴位于上述正规的成像图像的集合体亦即正规成像图像组的外侧。

13.根据权利要求11所述的分析装置，其特征在于，

在上述成像图像所存在的平面中，将与上述光轴的交点作为原点，由向量表示上述正规的成像图像的坐标，并且定义由两个上述向量的组合中的两个上述向量所成的角度最大而且小于180度的两个向量所夹的区域，此时，任意向量纳入上述区域内。