[发明专利]用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置有效
| 申请号： | 201880061412.2 | 申请日： | 2018-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN111108442B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | D·贝塞姆斯;J·D·特德罗;C·M·欧德尼尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种具有密封件的容器，密封件受到一定体积的气体的保护而免受容器内液体材料的侵害。容器具有分隔件，分隔件将容器划分为两个容积空间，使得通过第一容积空间中的一定体积的气体来保护与第一容积空间气体连通的密封件免受第二容积空间中的液体材料的侵害。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 保护 光刻 系统 压力容器 中的 密封件 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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