[发明专利]用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置

权利要求书

1.一种光刻系统，所述光刻系统具有熔融靶材料传送系统，所述熔融靶材料传送系统将熔融靶材料至少从第一位置传送到第二位置，包括：

容器，被设置在所述第一位置和所述第二位置之间的流体路径中并且与所述第一位置和所述第二位置均流体连通，所述容器包括：

容器壁，至少包围内部容积空间；

分隔件，被设置在所述容器壁内，所述分隔件将所述内部容积空间划分为至少第一容积空间和第二容积空间，所述分隔件被配置为当在所述内部容积空间内不存在熔融材料时允许所述第一容积空间和所述第二容积空间之间的气体连通，所述第一容积空间被配置为当在所述第二容积空间中存在熔融靶材料时捕获存在于所述第一容积空间内的至少一部分气体；

入口端口；

出口端口，所述第二容积空间与所述入口端口和所述出口端口均流体连通；以及

密封件，被设置为使得当所述第二容积空间中不存在所述熔融靶材料时所述密封件与所述第一容积空间和所述第二容积空间均气体连通，所述密封件被配置为当在所述第二容积空间中存在所述熔融靶材料时与所述第一容积空间内的所捕获的气体气体连通并且不与所述第二容积空间气体连通。

2.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述熔融靶材料是熔融锡。

3.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述容器是压力容器。

4.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述密封件由弹性体形成。

5.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述密封件是O形环。

6.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述第一容积空间具有朝向所述密封件逐渐变窄的锥形形状。

7.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述分隔件包括在所述第一容积空间和所述第二容积空间之间的一个或多个通孔。

8.根据权利要求1所述的光刻系统，其中所述入口端口和所述出口端口中的至少一个使用具有突起的防旋转插入件来耦合到流体管线。

9.一种光刻系统，所述光刻系统具有熔融靶材料传送系统，所述熔融靶材料传送系统将熔融靶材料至少从第一位置传送到第二位置，包括：

容器，被设置在所述第一位置和所述第二位置之间的流体路径中并且与所述第一位置和所述第二位置均流体连通，所述容器包括：

容器壁，至少包围内部容积空间；

分隔件，将所述内部容积空间划分为第一容积空间和第二容积空间，其中当在所述第二容积空间中存在第一量的熔融靶材料时，所述第一容积空间和所述第二容积空间被配置为气体连通，当在所述第二容积空间中存在第二量的熔融靶材料时，所述第一容积空间和所述第二容积空间被配置为由于被所述熔融靶材料阻塞而彼此未气体连通，熔融靶材料的所述第二量大于所述熔融靶材料的所述第一量；以及

密封件，与所述第一容积空间气体连通。

10.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述熔融靶材料是熔融锡。

11.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述容器是压力容器。

12.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述密封件由弹性体形成。

13.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述密封件是O形环。

14.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述第一容积空间具有朝向所述密封件逐渐变窄的锥形形状。

15.根据权利要求9所述的光刻系统，其中所述分隔件包括在所述第一容积空间和所述第二容积空间之间的一个或多个通孔。