[发明专利]激光解吸电离法和质量分析方法有效

专利信息
申请号: 201880060451.0 申请日: 2018-08-03
公开(公告)号: CN111094965B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G01N27/64 分类号: G01N27/64;H01J49/04;H01J49/10;H01J49/16
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 激光解吸电离法包括准备试样支撑体(1)的第1工序。试样支撑体(1)包括:基板(2);电离基板(3);以及支撑部(5),其以电离基板(3)的第1表面(3a)与基板(2)彼此隔开的方式相对于基板(2)支撑电离基板(3)。在电离基板(3)的至少测量区域(R)形成有多个贯通孔(3c)。至少在第2表面(3b)上的贯通孔(3c)的周缘部设置有导电层(4)。此外,激光解吸电离法包括:对电离基板(3)的测量区域(R)滴落试样(S)的第2工序;和第3工序,其在试样(S)浸透于电离基板(3)后,对导电层(4)施加电压且对第2表面(3b)照射激光(L),由此将试样(S)的成分电离。
搜索关键词: 激光 解吸 电离 质量 分析 方法
【主权项】:
暂无信息
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