[发明专利]用于测量光刻设备的聚焦性能的方法、图案形成装置和设备、以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201880043172.3 | 申请日： | 2018-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110832398B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 弗兰克·斯塔尔斯;A·B·范奥斯汀;Y·尤德黑斯特里亚;C·C·M·卢伊滕;B·韦斯特拉特恩;简-威廉·格明科 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明披露了不依赖于子分辨率特征的聚焦量测图案和方法。可以通过测量印制图案(T)、或印制图案的互补对(TN/TM)的不对称性来测量聚焦。可以通过散射测量来测量不对称性。可以使用EUV辐射或DUV辐射来印制图案。第一类型的聚焦量测图案包括与第二特征(424)交叉的第一特征(422)。每个第一特征中的最小尺寸(w1)接近于印制分辨率。每个第二特征在周期性的方向上的最大尺寸(w2)为所述第一特征的最小尺寸的至少两倍。每个第一特征定位在两个相邻的第二特征之间，使得介于所述第一特征与其最接近的第二特征的间距(w1’)介于所述第一特征的所述最小尺寸的一半与两倍之间。第二类型的聚焦量测图案包括成对地布置的特征(1122、1124)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 光刻 设备 聚焦 性能 方法 图案 形成 装置 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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