[发明专利]用于构建基材的方法、包括基材和用于构建所述基材的设备的组件、以及具有这种结构的基材有效
| 申请号： | 201880041046.4 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN110891730B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 保罗-艾蒂安·马丁;安妮·亨罗汀;塞巴斯蒂安·埃斯蒂瓦尔;阿克塞尔·斯蒂芬·M·库皮西维奇;约瑟·拉莫斯·德·坎普斯 | 申请（专利权）人： | 激光工程应用公司 |
| 主分类号： | B23K26/06 | 分类号： | B23K26/06;B23K26/08;B23K26/402;G02B5/122;G02B26/08;G02B26/10;B23K26/364;B23K101/38;B23K103/04;B23K103/08;B23K103/18;B23K103/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞朋;张云肖 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种用于构建基材(11)的方法，并且包括以下步骤：提供设备(2)，该设备包括光源(21)、用于获得相对于入射光束(8)在空间上偏移的出射光束(7)并且适于改变该空间偏移的光学系统(3)、用于聚焦出射光束(7)的聚焦装置(9)、基材保持器、用于在出射光束(7)与基材(11)之间产生运动的移动设备(60)；提供基材(11)并将基材放置在基材保持器上；对于由光学系统(3)施加的出射光束(7)与入射光束(1)之间的任何空间偏移，用具有大于1°的迎角(107)的聚焦的出射光束(7)蚀刻基材(11)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 构建 基材 方法 包括 设备 组件 以及 具有 这种 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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