[发明专利]通过监测UV出耦合的变化对UV应用的安全性改进有效
| 申请号： | 201880034043.8 | 申请日： | 2018-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110709107B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | B·A·索泰斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61L2/10 | 分类号： | A61L2/10;B63B59/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种系统(200)，包括：(i)被配置为提供辐射(221)的光源(220)，其中，辐射(221)至少包括UV辐射；(ii)包括辐射出射窗口(230)的波导元件(1210)，其中，波导元件(1210)被配置为接收辐射(221)的至少部分并经由辐射出射窗口(230)将辐射(221)的至少部分辐照到波导元件(1210)的外部，并且被配置为在辐射出射窗口(230)处内反射辐射(221)的部分；(iii)光学传感器(310)，其被配置为感测被内反射辐射(221)的内反射强度(I)；以及(iv)控制系统(300)，其功能性地耦合至所述光学传感器，并且被配置为根据达到内反射强度(I)随时间的降低的预定第一阈值来降低辐射(221)的强度。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 监测 uv 耦合 变化 应用 安全性 改进 | ||
【主权项】：
1.一种系统(200)，包括：/n波导元件(1210)，其包括辐射出射窗口(230)，其中，所述波导元件(1210)被配置为(a)接收辐射(221)，其中，所述辐射(221)至少包括UV辐射，并且所述波导元件被配置为(b)经由所述辐射出射窗口(230)将所述辐射(221)的至少部分辐照到所述波导元件(1210)的外部，并且所述波导元件被配置为(c)在所述辐射出射窗口(230)处将所述辐射(221)的部分进行内反射；/n光学传感器(310)，其被配置为感测被内反射辐射(221)的内反射强度(I)；/n控制系统(300)，其功能性地耦合到所述光学传感器，并且被配置为根据达到所述内反射强度(I)随时间的降低的预定第一阈值来降低所述辐射(221)的强度。/n
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