[发明专利]通过激光光刻制造3D结构的方法及相应的计算机程序产品有效
| 申请号： | 201880028007.0 | 申请日： | 2018-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN110573291B | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 晏·唐基;妮可·林德曼 | 申请（专利权）人： | 纳糯三维科技控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B29C64/10;B23K26/06;B22F3/105;B23K26/342;B23K26/082 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 王刚;葛强 |
| 地址： | 德国埃根*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于通过激光光刻来制造三维整体结构(10)的方法，该整体结构(10)由至少一个部分结构(14)来近似，其中，为了写入部分结构(14)，在利用多光子吸收的同时，在激光写入光束(28)的聚焦区域(26)中将曝光剂量辐射到光刻材料中。这里，在部分结构(14)中，与剩余的部分结构(14)相比，改变紧邻待制造的整体结构(10)的外表面(12)的那些边缘部分(20)中的曝光剂量。本发明还涉及适用于该方法的计算机程序产品。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 激光 光刻 制造 结构 方法 相应 计算机 程序 产品 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过在光刻材料中激光光刻来制造三维整体结构(10)的方法，/n其中，通过限定至少一个部分结构(14)来限定所述整体结构(10)，以使得所述至少一个部分结构(14)近似于所述整体结构(10)，/n其中，为了写入所述部分结构(14)，在利用多光子吸收的同时，在激光写入光束(28)的聚焦区域(26)中将曝光剂量辐射到所述光刻材料中，/n其特征在于，在所述至少一个部分结构(14)中，与剩余的部分结构(14)相比，改变在直接邻接待制造的所述整体结构(10)的外表面(12)的边缘部分(20)中的所述曝光剂量。/n
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