[发明专利]通过激光光刻制造3D结构的方法及相应的计算机程序产品

权利要求书

1.一种用于通过在光刻材料中激光光刻来制造三维整体结构(10)的方法，

通过限定至少一个部分结构(14)来限定所述整体结构(10)，以使得所述至少一个部分结构(14)近似于所述整体结构(10)，

为了写入所述部分结构(14)，在利用多光子吸收的同时，在激光写入光束(28)的聚焦区域(26)中将曝光剂量辐射到所述光刻材料中，

其特征在于，在所述至少一个部分结构(14)中，与剩余的部分结构(14)相比，改变在直接邻接待制造的所述整体结构(10)的外表面(12)的边缘部分(20)中的所述曝光剂量，

提供表示所述整体结构(10)的所述外表面(12)的数据集，确定所述外表面的局部斜率和/或曲率，所述曝光剂量的改变依赖于所述外表面(12)的邻接所述部分结构(14)的所述边缘部分(20)的区域(36)的所述局部斜率和/或曲率。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，通过依次限定多个部分结构(14)来限定所述整体结构(10)，其中，所述部分结构(14)一起近似所述整体结构(10)。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，与所述剩余的部分结构(14)相比，增加在所述边缘部分(20)中的所述曝光剂量。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，与所述剩余的部分结构(14)相比，减小在所述边缘部分(20)中的所述曝光剂量。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，改变所述激光写入光束(28)的辐射功率以便改变所述曝光剂量。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，为了写入所述部分结构(14)，使所述激光写入光束(28)的所述聚焦区域(26)移位通过所述光刻材料，并且改变所述聚焦区域(26)的移位速度以便改变所述曝光剂量。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，为了写入所述部分结构(14)，所述激光写入光束(28)的所述聚焦区域(26)穿过扫描曲线(22)，其以多个紧邻的曲线部分穿过所述光刻材料，其中，在穿过两个连续遍历的曲线部分之间等待一段等待时间，在所述等待时间期间，没有曝光剂量被辐射。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中，为了写入所述部分结构(14)，所述激光写入光束(28)的所述聚焦区域(26)穿过扫描曲线(22)，其以多个紧邻的曲线部分穿过所述光刻材料，其中，改变在相应的所述部分结构(14)的所述边缘部分(20)中的所述曝光剂量，以使得紧邻的曲线部分彼此之间在所述边缘部分(20)中具有的平均距离不同于紧邻的曲线部分彼此之间在相应的部分结构(14)的其他部分中具有的平均距离。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中，为了写入所述部分结构(14)，所述激光写入光束(28)的所述聚焦区域(26)穿过扫描曲线(22)，其穿过所述光刻材料，并且通过在所述边缘部分(20)内数次穿过所述扫描曲线(22)，来改变所述边缘部分(20)中的所述曝光剂量。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述部分结构(14)由一组体元(24)组成，并且所述激光写入光束(28)形成为以脉冲速率辐射的一系列激光脉冲，其中，每个激光脉冲用于写入体元(24)，并且通过改变所述脉冲速率和/或脉冲长度来改变所述曝光剂量。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述依赖由单调增大的函数给出。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，所述依赖由单调减小的函数给出。

13.一种计算机程序产品，包括指令，当由计算机执行时，所述指令使所述计算机执行权利要求1至12中任一项所述的方法。