[发明专利]光学薄膜、光学元件、光学系统及光学薄膜的制造方法有效
| 申请号： | 201880021859.7 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN110476088B | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 梅田贤一;中村诚吾;园田慎一郎;板井雄一郎;吉弘达矢 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/116 | 分类号： | G02B1/116;B32B15/01;G02B1/118;G02B15/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种具备平坦的超薄膜的含银金属层的光学薄膜及其制造方法、及具备光学薄膜的光学元件、以及具备该光学元件的光学系统。设为如下光学薄膜：从基材侧依次层叠中间层、含有银的含银金属层及电介质层而成，在中间层与含银金属层之间具备Hamaker常数为7.3×10 |
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| 搜索关键词： | 光学薄膜 光学 元件 光学系统 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学薄膜，其从基材侧起依次层叠中间层、含有银的含银金属层及电介质层而成，/n在所述中间层与所述含银金属层之间具备Hamaker常数为7.3×10-20J以上的锚金属扩散控制层，/n在该锚金属扩散控制层与所述含银金属层之间具备包含锚金属的氧化物的锚区域，该锚金属具有小于所述含银金属层的表面能且比所述锚金属扩散控制层的表面能大的表面能，/n在所述含银金属层与所述电介质层之间具备包含所述锚金属的氧化物的罩体区域，/n所述含银金属层、所述锚区域及所述罩体区域的总计膜厚为6nm以下。/n
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