[发明专利]用于暗场X射线成像的灵敏度优化患者定位系统有效
| 申请号： | 201880020764.3 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN110520049B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | T·克勒;A·亚罗申科 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B6/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像。为了改进图像的质量，提供了一种用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统(10)，所述基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像用于通过辐照患者对患者进行成像。所述系统包括：源单元(12)、探测单元(14)以及具有患者邻接表面(18)的患者支撑单元(16)。源单元(12)和探测单元(14)沿光轴(13)布置，并且患者支撑单元(16)布置在其间。此外，沿着光轴(13)在源单元(12)与患者邻接表面(18)之间的邻接距离(d |
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| 搜索关键词： | 用于 暗场 射线 成像 灵敏度 优化 患者 定位 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统(10)，所述基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像用于通过辐照患者对所述患者进行成像，所述系统包括：/n源单元(12)；/n探测单元(14)；以及/n患者支撑单元(16)，其具有患者邻接表面(18)；/n其中，所述源单元(12)和所述探测单元(14)沿着光轴(13)布置，并且所述患者支撑单元(16)被布置在所述源单元与所述探测单元之间；/n其中，沿着所述光轴(13)在所述源单元(12)与所述患者邻接表面(18)之间的邻接距离(dA)是能够调整的；并且/n其中，所述邻接距离(dA)和基于所述邻接距离(dA)的实际灵敏度被考虑用于成像，使得能够实现以患者特异性方式进行灵敏度与视场之间的权衡。/n
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