[发明专利]用于暗场X射线成像的灵敏度优化患者定位系统

说明书

本发明涉及一种基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像。为了改进图像的质量，提供了一种用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统(10)，所述基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像用于通过辐照患者对患者进行成像。所述系统包括：源单元(12)、探测单元(14)以及具有患者邻接表面(18)的患者支撑单元(16)。源单元(12)和探测单元(14)沿光轴(13)布置，并且患者支撑单元(16)布置在其间。此外，沿着光轴(13)在源单元(12)与患者邻接表面(18)之间的邻接距离(dsubgt;A/subgt;)是能调整的。邻接距离(dsubgt;A/subgt;)和基于邻接距离(dsubgt;A/subgt;)的实际灵敏度被考虑用于成像，使得能够实现以患者特异性方式进行灵敏度与视场之间的权衡，例如最佳权衡。所述系统被配置为确定所述源单元与要辐照的所述患者之间的目标距离(dsubgt;T/subgt;)直到视场对应于感兴趣区域，并且使用所述目标距离来调整所述邻接距离。

技术领域

本发明涉及一种用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统，以及一种用于捕获暗场和/或相衬X射线图像的方法。

背景技术

标准X射线成像技术依赖于由于在穿过要辐照的对象时对象的衰减的X射线射束的强度的降低，其可以在X射线探测器的帮助下进行测量。通过使用干涉测量法，例如通过使用在射束中具有三个光栅的Talbot-Lau型干涉仪，两个额外的物理效应产生可以用于成像的对比。相衬X射线成像使用关于由于穿过对象的X射线射束的折射的相位的变化的信息，以便产生图像数据。暗场对比X射线成像使用有关小角度散射的信息。暗场和/或相衬X射线成像可以利用反向几何结构来进行。然而，已经示出在系统的灵敏度和所实现的视场之间存在权衡。

发明内容

能够需要改进利用用于基于光栅的暗场X射线相衬成像的射线照相系统捕获的图像的质量。

通过独立权利要求的主题解决了本发明的目的，其中，另外的实施例并入在从属权利要求中。应当注意，本发明的以下描述的方面也适用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统，以及用于捕获暗场和/或相衬X射线图像的方法。

根据本发明，提供了一种用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统。用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统包括：源单元、探测单元以及具有患者邻接表面的患者支撑物。源单元和探测单元沿光轴布置，并且患者支撑物布置在其间。沿光轴在源单元与患者邻接表面之间的邻接距离是能调整的以调节用于成像的实际灵敏度，使得能够实现以患者特异性方式进行灵敏度与视场之间的权衡。所述系统被配置为确定所述源单元与要辐照的所述患者之间的目标距离(d_T)直到视场对应于感兴趣区域，并且使用所述目标距离来调整所述邻接距离。

作为效果，避免了对要辐照的对象(即患者)内的小角度散射的高灵敏度，因为患者可以以调整的方式定位。更靠近辐射源单元的定位增加了放大率，并且因此减小了视场。高灵敏度被提供，因为其产生更好的对比-噪声比，这通常有助于诊断。因此，改进了图像质量。

在另一范例中，提供了一种用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统。用于基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像的射线照相系统包括：源单元、探测单元以及具有患者邻接表面的患者支撑物。源单元和探测单元沿光轴布置，并且患者支撑物布置在其间。沿光轴在源单元与患者邻接表面之间的邻接距离是能调整的。

源单元与患者邻接表面之间的距离也可以称为邻接距离d_A。

基于光栅的暗场和/或相衬X射线成像技术需要将三个光栅插入到射束中，或者当光源提供相干X射线时将至少两个光栅插入到射束中。

在范例中，源单元包括第一光栅G0和被提供在第一光栅下游的第二光栅G1，并且探测单元包括第三光栅G2。最大灵敏度当患者被定位在G1时达到，并且在G2处线性下降到0。

患者支撑单元的可移动性涉及患者支撑单元的重新定位。重新定位也可以称为移位。