[发明专利]具有低折射率层与高折射率层的厚度比得到优化的耐磨且耐温干涉涂层的光学制品在审
申请号: | 201880018858.7 | 申请日: | 2018-04-18 |
公开(公告)号: | CN110462451A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | N·迈特尔;A·泰奥登;F·德艾瓜维韦斯 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;G02B1/116 |
代理公司: | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 张振军;刘娜<国际申请>=PCT/EP2 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: |
本发明涉及一种光学制品,所述光学制品包括具有至少一个主面的基材,所述至少一个主面依次涂覆有:厚度大于或等于100nm的单层子层,多层干涉涂层,所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体,其中,比率 |
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搜索关键词: | 干涉涂层 低折射率层 高折射率层 光学制品 折射率 多层 离子辅助 堆叠体 单层 基材 涂覆 主面 子层 沉积 | ||
【主权项】:
1.一种光学制品,所述光学制品包括具有至少一个主面的基材,所述至少一个主面依次涂覆有:/n-厚度大于或等于100nm的单层子层,/n-多层干涉涂层,所述多层干涉涂层包括折射率高于1.55的至少一个高折射率层和折射率为1.55或更小的至少一个低折射率层的堆叠体,其中:/n比率:/n /n大于或等于2,所述干涉涂层的最外侧高折射率层不包含TiO2,并且所述干涉涂层的最外侧低折射率层是在没有离子辅助的情况下沉积的。/n
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