[发明专利]用于有机电致发光器件的材料有效
申请号: | 201880017826.5 | 申请日: | 2018-03-12 |
公开(公告)号: | CN110431136B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | C07D405/14 | 分类号: | C07D405/14;C07D413/14;C07D405/04;C07D417/04;C07D419/14;C07D498/06;C07D513/04;C07F7/08;H10K85/60;H10K50/11;H10K50/16;H10K50/18;H10K50/15 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王潜;郭国清 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及二苯并呋喃和二苯并噻吩衍生物,其特别是用作有机电致发光器件中的三重态基质材料。本发明还涉及制备本发明化合物的方法,以及包含本发明化合物的电子器件。 | ||
搜索关键词: | 用于 有机 电致发光 器件 材料 | ||
【主权项】:
1.一种式(1)的化合物,
其中使用的符号如下:A、A1在每种情况下相同或不同,并且是CR1或N,其中,在所有A和A1中,每个环不超过两个A和/或A1基团是N,并且与L2键合的A是C;Y1为O、S、NR或C(R)2,其中与N键合的R基团不是H或D;L1是单键或具有5至30个芳族环原子并且可以被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系;L2是单键或具有5至30个芳族环原子并且可以被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系;N'是式(L‑1)的基团,
其中虚线键表示与L2的连接;Y2在每种情况下相同或不同,并且选自单键、C(R)2、C=O、O、S、S=O、SO2、Si(R)2、NR,其中与N键合的R基团不是H或D;n在每种情况下相同或不同,并且为0或1,其中,当至少一个Y2为单键时,至少两个n为1;Ar在每种情况下相同或不同,并且是具有5至30个芳族环原子并且可以被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系;HetAr是式(2)、(3)或(4)的基团,
其中虚线键表示这种基团的连接;X在每种情况下相同或不同,并且是CR2或N,条件是至少一个X符号是N;R、R1、R2、R3在每种情况下相同或不同,并且选自H,D,F,Cl,Br,I,CN,NO2,N(Ar1)2,N(R4)2,C(=O)Ar1,C(=O)R4,P(=O)(Ar1)2,P(Ar1)2,B(Ar1)2,Si(Ar1)3,Si(R4)3,具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或者具有2至20个碳原子的烯基基团,所述基团各自可以被一个或多个R4基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R4C=CR4、Si(R4)2、C=O、C=NR4、P(=O)(R4)、SO、SO2、NR4、O、S或CONR4代替,且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R4基团取代的芳族或杂芳族环系,具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R4基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,和具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R4基团取代的芳烷基或杂芳烷基基团;同时,任选地,两个相邻的R取代基,或两个相邻的R1取代基,或两个相邻的R2取代基,或两个相邻的R3取代基,可以形成可以被一个或多个R4基团取代的脂族、杂脂族、芳族或杂芳族环系;Ar1在每种情况下相同或不同,并且是具有5至30个芳族环原子并且可以被一个或多个非芳族的R4基团取代的芳族或杂芳族环系;同时,与同一个氮原子、磷原子或硼原子键合的两个Ar1基团也可以通过单键或选自N(R4)、C(R4)2、O和S的桥连基彼此桥接;R4在每种情况下相同或不同,并且选自H,D,F,Cl,Br,I,CN,NO2,N(R5)2,C(=O)R5,Si(R5)3,具有1至20个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或具有3至20个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或者具有2至20个碳原子的烯基基团,所述基团各自可以被一个或多个R5基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可以被R5C=CR5、Si(R5)2、C=O、C=NR5、P(=O)(R5)、SO、SO2、NR5、O、S或CONR5代替并且其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可以被一个或多个R5基团取代的芳族或杂芳族环系,具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R5基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,和具有5至40个芳族环原子并且可以被一个或多个R5基团取代的芳烷基或杂芳烷基基团;同时,任选地,两个相邻的R4取代基可以形成可以被一个或多个R5基团取代的脂族或芳族或杂芳族环系;R5在每种情况下相同或不同,并且选自H,D,F,CN,具有1至20个碳原子的脂族烃基,和具有5至30个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,其中一个或多个氢原子可以被D、F、Cl、Br、I或CN代替,并且其可以被一个或多个各自具有1至4个碳原子的烷基取代;同时,两个或更多个相邻的R5取代基可以一起形成脂族环系;排除以下化合物:![]()
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