[发明专利]包括光屏蔽膜的波导及其制造方法有效
| 申请号： | 201880010876.0 | 申请日： | 2018-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN110268193B | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 金雅琳;俞在贤;朴圣恩;金俊衡 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G02B27/01 | 分类号： | G02B27/01 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 陈英俊;张云志 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种波导及其制造方法，所述波导包括形成在平面波导的边缘侧的切割面上的光屏蔽膜，该光屏蔽膜的厚度为2μm至120μm，基于厚度为1.0μm的光屏蔽膜，光密度(OD)为0.01至0.7，并且根据ASTM D3363标准，硬度为3H以上。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 屏蔽 波导 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种平面波导，具有形成在该平面波导的边沿侧的切割面上的光屏蔽膜：其中，所述光屏蔽膜的厚度为2μm至120μm，基于1.0μm的厚度，所述光屏蔽膜的光密度(OD)为0.01至0.7，根据ASTM D3363标准，所述光屏蔽膜的硬度为3H以上的铅笔硬度。
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